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应用物理快报

英文名称:Applied Physics Express   国际简称:APPL PHYS EXPRESS
《Applied Physics Express》杂志由Japan Society of Applied Physics出版社出版,本刊创刊于2008年,发行周期Monthly,每期杂志都汇聚了全球物理与天体物理领域的最新研究成果,包括原创论文、综述文章、研究快报等多种形式,内容涵盖了物理与天体物理的各个方面,为读者提供了全面而深入的学术视野,为物理与天体物理-PHYSICS, APPLIED事业的进步提供了有力的支撑。
中科院分区
物理与天体物理
大类学科
1882-0778
ISSN
1882-0786
E-ISSN
预计审稿速度: 约1.0个月
杂志简介 期刊指数 WOS分区 中科院分区 CiteScore 学术指标 高引用文章

应用物理快报杂志简介

出版商:Japan Society of Applied Physics
出版语言:English
TOP期刊:
出版地区:JAPAN
是否预警:

是否OA:未开放

出版周期:Monthly
出版年份:2008
中文名称:应用物理快报

应用物理快报(国际简称APPL PHYS EXPRESS,英文名称Applied Physics Express)是一本未开放获取(OA)国际期刊,自2008年创刊以来,始终站在物理与天体物理研究的前沿。该期刊致力于发表在物理与天体物理领域各个方面达到最高科学标准和具有重要性的研究成果。全面反映该学科的发展趋势,为物理与天体物理事业的进步提供了有力的支撑。期刊严格遵循职业道德标准,对于任何形式的抄袭行为,无论是文字还是图形,一旦查实,均可能导致稿件被拒绝。

近年来,来自Japan、CHINA MAINLAND、USA、South Korea、France、GERMANY (FED REP GER)、Taiwan、England、Russia、Singapore等国家和地区的研究者在《Applied Physics Express》上发表了大量的高质量文章。该期刊内容丰富,包括原创研究、综述文章、专题观点、论文预览、专家意见等多种类型,旨在为全球该领域研究者提供广泛的学术交流平台和灵感来源。

在过去几年中,该期刊保持了稳定的发文量和综述量,具体数据如下:

2014年:发表文章419篇、2015年:发表文章386篇、2016年:发表文章391篇、2017年:发表文章340篇、2018年:发表文章379篇、2019年:发表文章561篇、2020年:发表文章457篇、2021年:发表文章375篇、2022年:发表文章344篇、2023年:发表文章311篇。这些数据反映了期刊在全球物理与天体物理领域的影响力和活跃度,同时也展示了其作为学术界和工业界研究人员首选资源的地位。《Applied Physics Express》将继续致力于推动物理与天体物理领域的知识传播和科学进步,为全球物理与天体物理问题的解决贡献力量。

期刊指数

  • 影响因子:2.3
  • 文章自引率:0.0869...
  • Gold OA文章占比:15.21%
  • CiteScore:4.8
  • 年发文量:311
  • 开源占比:0.1138
  • SJR指数:0.487
  • H-index:79
  • SNIP指数:0.817
  • OA被引用占比:0.1629...
  • 出版国人文章占比:0.34

WOS期刊SCI分区(2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

44.4%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 95 / 179

47.21%

中科院分区表

中科院SCI期刊分区 2023年12月升级版
Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理 4区
PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区

CiteScore(2024年最新版)

CiteScore 排名
CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
4.8 0.487 0.817
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:General Engineering Q2 77 / 307

74%

大类:Engineering 小类:General Physics and Astronomy Q2 72 / 243

70%

学术指标分析

影响因子和CiteScore
自引率

影响因子:指某一期刊的文章在特定年份或时期被引用的频率,是衡量学术期刊影响力的一个重要指标。影响因子越高,代表着期刊的影响力越大 。

CiteScore:该值越高,代表该期刊的论文受到更多其他学者的引用,因此该期刊的影响力也越高。

自引率:是衡量期刊质量和影响力的重要指标之一。通过计算期刊被自身引用的次数与总被引次数的比例,可以反映期刊对于自身研究内容的重视程度以及内部引用的情况。

年发文量:是衡量期刊活跃度和研究产出能力的重要指标,年发文量较多的期刊可能拥有更广泛的读者群体和更高的学术声誉,从而吸引更多的优质稿件。

期刊互引关系
序号 引用他刊情况 引用次数
1 APPL PHYS LETT 1956
2 PHYS REV B 884
3 PHYS REV LETT 765
4 J APPL PHYS 718
5 OPT EXPRESS 677
6 APPL PHYS EXPRESS 633
7 OPT LETT 390
8 IEEE ELECTR DEVICE L 366
9 JPN J APPL PHYS 351
10 NANO LETT 351
序号 被他刊引用情况 引用次数
1 JPN J APPL PHYS 837
2 APPL PHYS EXPRESS 633
3 APPL PHYS LETT 352
4 J APPL PHYS 329
5 OPT EXPRESS 239
6 PHYS REV B 209
7 SCI REP-UK 157
8 J CRYST GROWTH 147
9 AIP ADV 136
10 J PHYS D APPL PHYS 131

高引用文章

  • Indication of current-injection lasing from an organic semiconductor引用次数:51
  • A 271.8 nm deep-ultraviolet laser diode for room temperature operation引用次数:48
  • Hybrid quantum systems based on magnonics引用次数:47
  • U-shaped photonic quasi-crystal fiber sensor with high sensitivity based on surface plasmon resonance引用次数:29
  • Omnidirectional tunable terahertz analog of electromagnetically induced transparency realized by isotropic vanadium dioxide metasurfaces引用次数:28
  • High external quantum efficiency (10%) AlGaN-based deep-ultraviolet light-emitting diodes achieved by using highly reflective photonic crystal on p-AlGaN contact layer引用次数:20
  • Low-pressure CVD-grown beta-Ga2O3 bevel-field-plated Schottky barrier diodes引用次数:20
  • Reduction of threading dislocation density and suppression of cracking in sputter-deposited AIN templates annealed at high temperatures引用次数:19
  • Design and exploration of semiconductors from first principles: A review of recent advances引用次数:19
  • Three-dimensional imaging of threading dislocations in GaN crystals using two-photon excitation photoluminescence引用次数:18
若用户需要出版服务,请联系出版商:JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, KUDAN-KITA BUILDING 5TH FLOOR, 1-12-3 KUDAN-KITA, CHIYODA-KU, TOKYO, JAPAN, 102-0073。